产品别名 |
镀膜机,磁控溅射镀膜机,光学镀膜机 |
面向地区 |
品牌 |
星海威 |
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用途 |
真空均匀镀膜 |
泵轴位置 |
卧式 |
加工定制 |
是 |
驱动方式 |
电动 |
输送介质 |
热水泵 |
叶轮吸入方式 |
单吸式 |
真空度 |
低真空度 |
光学镀膜机
应用领域：
手机面板、平板电脑登触控面板。莫氏6H以上的超硬AR膜、超硬减反膜、UV/IR截止滤光片、AF防指纹膜等
2.设备分为工艺室和镀膜室两部分
工艺室剧透离子源清洗装置，基片表面干净无油污，增强附着力。同时采用两个靶位镀金属膜，减少对镀膜室的污染。双腔构造，能持续性生产，提率，降低成本。
镀膜室采用溅射镀膜室，采用4对靶位，进行多层不同材料的连续性镀膜，能够在真空环境下不受污染，加快镀膜效率，双开门式结构，使用过程保养维修中较加便捷。
3.机型：XHE系列
精密光学电子枪蒸镀系统为精密光学薄膜器件镀膜而设计，各系统设计和整体结构满足光学薄膜生产工艺要求。
4.设备特点
真空指标：极限真空：5.0E-5pa（洁净空载，有伞架，有护板、无基板情况下）
抽空时间：大气至3.0E-3pa≤15min
真空压升率：≤0.5pa/h（洁净空载、抽空至极限真空后开始测试）
烘烤指标：高温度300℃，多点控温，测温准确，PID智能控温系统，温度可控可调
光学实时监控：的光学监控系统，通过安装在腔内的监控组件，实时监控E-beam伞顶上基片的厚度并反馈回系统，通过馈入反馈信息控制成膜系统，达到实时监控修正膜厚的目的
成膜系统：270°E型双电子枪蒸发源，配备挡板，水冷坩埚和多穴位坩埚可供选择。IAO离子辅助成膜，提高光学膜层特性，改善基片表面活性和附着力等
5.精密光学蒸镀系统，能够实现0-200层膜的膜系镀膜，可沉积金属膜、半导体膜、及各类化合物（氧化物、氮化物、碳化物等）膜，配置的电子枪和离子源集成电阻蒸发，镀膜工艺和膜厚自动控制，薄膜质量稳定。
